《薄膜物理与技术》主要阐述了薄膜物理与薄膜技术的基础理论知识，重点讲述了薄膜生长基础，薄膜生长技术，包括蒸发、溅射、离子镀、化学气相沉积、原子层沉积、化学溶液沉积以及纳米薄膜组装等，并对薄膜的基本性质及与光、电相关的一些薄膜材料进行了介绍。本书可作为高等学校材料科学与工程、电子科学与技术、微电子、光学等专业的本科生或研

本书首先讲解价电子的运动状态，引出了金属自由电子理论的索末菲模型；其次讲解离子实排布，引出了晶体结构；再次讲授内层电子，引出了布洛赫定理和能带理论；最后通过分析离子实的热振动，研究晶格动力学，从微观角度分析宏观问题。

本教材分析了高分子复合材料电介质所涵盖的主要性能参数，如介电常数与场强击穿强度，同时探究了其表界面以及其他主要的影响因素，以此明确了影响高分子电介质复合材料的主要性能指标。此外，围绕介电常数与场强击穿强度的主要理论模型进行了深入的对比分析，从理论层面上分析了介电常数与场强击穿强度的本质。接着提出了主要的工程制备技术，如

《狄拉克半金属的能带调控和超快动力学研究（英文版）》针对超快时间分辨角分辨光电子能谱系统的研制以及两个典型狄拉克半金属材料的电子能谱和超快动力学开展研究，取得了多项创新性研究成果。包括成功研制出光子能量连续可调的超快时间分辨角分辨光电子能谱系统，为研究三维量子材料的超快动力学提供了重要的实验手段；通过Li插层形成凯库勒

本书主要围绕作者在缺陷与催化方面开展的研究工作进行了系统梳理和总结，内容包括固体缺陷化学及其发展概述、催化中的缺陷材料及其作用机制概述、碳材料缺陷与催化、金属材料缺陷与催化、金属化合物材料缺陷与催化、金属有机配位化合物缺陷与催化、负载型材料缺陷与催化等。通过催化剂表面缺陷的构筑，设计高性能催化剂，认识缺陷产生机制，理解

本书系统全面地介绍了单分子膜的发展概况、制备方法、表征手段和应用领域。重点介绍了LB膜、自组装膜及二维材料膜的结构特点、制备手段及表征方法，及其在储存、手性催化、光电等领域的应用；阐述了典型界面衍生膜(MOFs膜、COFs膜及非晶碳膜)的制备、表征及其在气体分离、海水淡化等领域的广泛应用。

"固体物理是19世纪以来物理学发展的主流方向之一。在20世纪中期以后，固体物理的发展与第三次工业革命中的信息工业革命互相推动，相辅相成。本书在把握固体物理历史发展脉络和逻辑发展的基础上，建立了清晰的概念体系，对学科发展进行了全面且系统的论述。全书分为八部，共计三十六章。第一部讨论固体结构，包括自然界常见的晶体结构、点群

《固体物理基础》基于“厚基础、宽口径”的人才培养原则，在引入统计物理学和量子力学基本理论基础上，详细介绍能带理论和金属电子论，并在电子层面阐述材料的热、磁、光、电等基本性质的起源，最后介绍固体物理理论在各类新材料中的应用。本书充分融合了凝聚态物理和典型功能材料最近20年的主要研究成果，针对材料类本科生知识结构和培养特点

《介电常数近零媒质的集成光学掺杂理论及应用》针对介电常数近零（ENZ）媒质及其光学掺杂调控展开研究，介绍了集成化、低损耗的ENZ媒质及光学掺杂的理论与实现方案，并基于近零折射率特性与光学掺杂电磁调控给出一系列电路与天线领域的关键应用。《介电常数近零媒质的集成光学掺杂理论及应用》的内容可以总结为如下三个方面。①基础理论与

该著作系统研究了磁控溅射法制备InN、AlN薄膜材料的电学、光学等物理特性。首先对薄膜材料进行研究。通过优化溅射参数，得到具有不同性质的InN薄膜材料，使其作为电子注入层制备出不同类型的InN基光电器件，并对器件的光电特性进行深入分析研究。其次对AlN薄膜材料进行研究。通过优化溅射参数得到高质量的AlN薄膜材料，在此基