本书重点介绍了各种不同类型的界面插层材料对NiFe磁阻薄膜材料结构及电输运性能的影响。全书共7章,内容包括:磁电阻薄膜材料简介、NiFe薄膜材料研究现状、薄膜制备及结构性能表征方法等。
传感器在降低环境风险、保障人身及财产安全等方面发挥了重要作用。采用氧化物半导体气敏材料制作的传感器以其成本低、耗能少、制作和使用方便、响应灵敏等优点越来越受到人们的广泛关注。本书除了系统总结作者近年来在该领域取得的重要研究成果之外,还详细阐述了氧化物半导体气敏材料的敏感机理、研究进展、发展趋势及存在问题,重点介绍了几种
半导体器件数值模拟计算方法是现代计算数学和工业与应用数学的重要领域。半导体器件数值模拟是用电子计算机模拟半导体器件内部重要的物理特性,获取有效数据,是设计和研制新型半导体器件结构的有效工具。本书主要内容包括半导体器件数值模拟的有限元方法、有限差分方法,半导体问题的区域分裂和局部加密网格方法,半导体瞬态问题的块中心差分方
本书系统并扼要介绍国际上从上世纪八十年代直到今天持续活跃的关于半导体中氢的研究成果。内容涵盖从半导体中氢原子与分子的最初实验发现到氢致缺陷研究(包括国内研究人员的贡献),到硅等元素半导体至砷化镓,碳化硅等化合物半导体中氢的基本性质和重要效应。其中包括对材料和器件研制至关重要的含氢复合物,荷电杂质与缺陷的中性化,氢致半导
本书主要描述半导体材料的主要测试分析技术,介绍各种测试技术的基本原理、仪器结构、样品制备和分析实例,主要包括载流子浓度(电阻率)、少数载流子寿命、发光等性能以及杂质和缺陷的测试,其测试分析技术涉及到四探针电阻率测试、无接触电阻率测试、扩展电阻、微波光电导衰减测试、霍尔效应测试、红外光谱测试、深能级瞬态谱测试、正电子湮灭
本书主要内容包括单晶炉的基本知识、直拉单晶炉、直拉单晶炉的热系统及热场、晶体生长控制器、原辅材料的准备、直拉单晶硅生长技术、铸锭多晶硅工艺、掺杂技术等内容。本书可作为各类院校太阳能光伏产业硅材料技术专业、新能源专业的教材,也可作为单晶硅生产企业的员工培训教材,还可作为相关专业工程技术人员的参考书。
典型半导体团簇及其团簇组装材料的结构及其电子性质的研究是当前团簇科学研究的热点。本书采用**性原理中的各种方法对系列典型的半导体团簇的几何结构和电子性质等进行理论研究,发现该类团簇的结构及其成键特征、电子性质,为其他团簇的计算提供更为详尽的信息。在研究半导体团簇的基础上,首次探讨基于典型半导体团簇的团簇组装材料的结构特
本书全面地总结了整机电子装联技术,内容涵盖整机装联的各个方面。从工程应用角度,全面、系统地对整机装联的装配环境及所需材料进行了详细的描述,如焊料、焊剂、胶黏剂等。介绍了整机装配中使用的电缆组件、连接器等的电装工艺,如电缆及连接器的选型、电缆的绑扎和走线注意事项、元器件的装配工艺等。着重对基础知识进行了讲解,同时结合实际
本书以半导体集束型装备为研究对象,在全面分析其调度特点的基础上,详细解剖、分析半导体集束型装备各类调度问题,建立了调度模型并运用智能化方法设计了相应的求解方案。本书在认真总结国内外多年的半导体集束型装备调度研究成果的基础上,结合作者多年在生产调度,特别是半导体集束型装备领域的研究与应用成果,对复杂的半导体集束型装备调度
本书是作者多年来在微波宽禁带半导体器件及其建模科研工作的总结,核心内容来自于作者或者与中国电科55所、中国电科13所等联合单位发表在国际重要期刊的文章。本书是作者多年来在微波宽禁带半导体器件及其建模科研工作的总结,核心内容来自于作者或者与中国电科55所、中国电科13所等联合单位发表在国际重要期刊的文章。
场发射冷阴极在显示技术、微波能源及高频电子等方面具有十分重要的应用。《纳米半导体场发射冷阴极理论与实验》基于作者多年来在纳米半导体场发射冷阴极方面的工作积累,对该领域的发展历程、理论基础、设计模型与制备性能进行了系统的介绍与讨论,期望为新型纳米半导体场发射冷阴极研发与器件应用提供指导与参考。 《纳米半导体场发射冷阴极
太阳能是取之不尽用之不竭的清洁能源。太阳能光伏发电是近年来太阳能应用中发展最快、最具活力的研究领域。与目前广泛采用的硅太阳能电池相比,铜铟硒薄膜太阳能电池具有光电转化效率高、性能稳定、空间抗辐射性能强等优点,在当前的光伏领域备受关注。铜铟硒(CuInSe2)中加入一定量Al和S分别替代部分贵重金属In和Se,一方面可以
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于32n
本书是由集成电路行业质量与可靠性管理领域的国际知名学者,中芯国际集成电路制造有限公司副总裁简维廷、郭位院士(美)、张启华等专家编著的一本阐述质量与可靠性工程在集成电路制造中的实际应用的专著。书中系统、深入地介绍了从设计、制造评估到使用实际工程中各个环节的质量与可靠性问题,并将作者独到的创新理念融入于整个书中。全书共4章
本书详细介绍了现代电子装联工艺过程中,各个工序常见的技术要求及对异常问题的处理方法,包括从PCB到PCBA及*终产品的每一个主要过程,如PCB清洁、印锡、点胶、贴片、回流、AOI检测、手工焊、压接、电批使用、三防涂覆、返修技术、各类设备维护保养等,贯穿整个单板加工的工艺流程。同时还介绍了各个环节对从业者的基本要求,所涉
本书内容以电子装联材料工艺知识为主,内容包括现代电子装联材料工艺概论、焊料(焊膏、锡条、锡线、锡片)基础知识及应用工艺、助焊剂基础知识及应用工艺、清洗剂基础知识及应用工艺、电子胶黏剂基础知识及应用工艺、三防涂料基础知识及应用、其他电子装联材料基础知识及应用工艺。全书除介绍电子装联材料的特性、分类和化学组成外,还简单介绍
本手册以通俗易懂、图文并茂的方式,全面介绍了近代常用的电力电子元器件的分类、结构、工作原理及其应用。本书共分16章,主要包括电阻器、电位器、电容器、电感器、滤波器、变压器、二极管、晶体管、晶闸管、功率场效应管MOSFET、绝缘栅双极晶体管IGBT、振荡器、传感器、光电耦合器、保护元器件等各类电力电子元器件以及它们的应用
随着电子产品向多功能、高密度、微型化方向发展,电子裝联工艺发生了很大的变化,涉及焊料、PCB、元器件等组装材料面临更多的挑战,对裝联工艺技术和可靠性提出了更高的要求,因此,迫切需要一本能系统阐述现代电子裝联工艺并为后续产品实际组装提供指导的图书。本书从PCB、元器件和焊接材料入手,系统讲解了现代电子裝联工艺中常见的技术
本书基于对现代电子装联软钎焊技术原理分析,阐明了焊接过程中润湿铺展与溶解扩散两个主要过程对焊点形成的重要性,对典型群焊技术(再流焊、波峰焊)、局部焊接技术(掩膜焊、选择焊、激光焊、热压焊等)及手工焊接技术工艺特点、工作原理、制程设计与步骤、质量控制、常见焊接缺陷等进行了介绍;针对PCBA可制造性设计(DFM),从PCB
本书系统地介绍了电子装联技术中大量应用的电子元器件及印制板的主要技术性能和应用特性,包括元器件的分类、元器件的制作过程、元器件的选型要求与验收标准、元器件引脚材料和镀层要求、印制板的选用要求,印制板的表面镀层及可焊性要求、印制板的选型评估方法与印制板在电子组装中的常见问题分析及应对举措等内容。