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《微纳结构半导体光探测器》以微纳结构半导体光探测器为主要研究对象，全面阐述了微纳结构半导体光探测器的理论设计方法、制备工艺及测试方法，较为系统、完整地介绍了基于不同类型微纳结构半导体光探测器的性能指标、应用以及未来的发展趋势。通过阅读《微纳结构半导体光探测器》，读者可以比较全面地了解相关的原理技术和应用前景。

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集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。《半